Castro de Oliveira R, Gois J. MOTIVAÇÃO PARA PERMANÊNCIA E ÊXITO DOS LICENCIANDOS EM QUÍMICA NO INSTITUTO FEDERAL DE EDUCAÇÃO, CIÊNCIA E TECNOLOGIA DE SÃO PAULO. RPD [Internet]. 31º de agosto de 2020 [citado 3º de julho de 2024];5(2):999-1018. Disponível em: https://periodicos.cfs.ifmt.edu.br/periodicos/index.php/rpd/article/view/445